北方华创(Naura)官方宣布，ICP等离子刻蚀机第1000腔交付仪式近日在北京亦庄基地举行，NAURA刻蚀机研发团队见证了这一历史性时刻。
北方华创表示，这不仅是公司发展征程中的重要里程碑，更是国产刻蚀机在历经了20年自主创新后得到客户广泛认可的重要标志，未来会持续在等离子刻蚀ICP技术领域寻求更多突破。
北方华创科技集团股份有限公司成立于2001年，由北京七星华创电子股份有限公司、北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司战略重组而成，是目前国内集成电路高端工艺装备的先进企业。
北方华创成立后就开始组建团队钻研刻蚀技术，2004年第一台设备成功起辉，2005年第一台8英寸ICP刻蚀机在客户端上线，并于2007年获得国家科学技术进步二等奖。
目前，北方华创的刻蚀设备已经覆盖集成电路、LED、先进封装、功率半导体、MEMS微机电系统、化合物半导体、硅基微显、分析仪器、功率器件、光通信器件等多个领域，硅刻蚀机已突破14nm技术，进入主流芯片代工厂。
其中，12英寸ICP刻蚀机在实现客户端28nm国产化替代，并在14/7nm SADP/SAQP、先进存储器、3D TSV等工艺应用中发挥着重要作用。
所谓等离子干法刻蚀，就是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术，具有良好的各向异性、工艺可控性，广泛应用于微电子产品制造领域。
在典型的干法刻蚀工艺过程中，一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中，在外部能量作用下(如射频、微波等)形成等离子体。
另外，很多人可能分不清光刻机、刻蚀机。最简单地说，光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面，刻蚀机则是画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉。
再打个比方，光刻机是照相机，刻蚀机就是显影设备。
来源：Techweb
【半导体光刻与刻蚀论坛2020】
半导体光刻与刻蚀材料、设备与技术论坛2020将于12月30-31日上海召开。会议由亚化咨询主办，多家国内外企业重点支持和参与，将对半导体产业核心工艺——光刻和刻蚀产业链相关的重点议题展开深入探讨。
会议主题
1.半导体光刻与刻蚀产业链相关政策趋势
2.国际先进光刻材料设备与技术
3.半导体光刻胶及其原料
4.半导体光刻技术——DUV、浸没式、多重曝光、EUV、新技术
5.光刻与刻蚀产业链的国产化发展
6.光掩膜版、光刻气、光刻源、光刻机及其关键零部件
7.光刻配套——涂胶显影、光刻胶剥离、检测等
8.刻蚀技术——湿法、干法、等离子刻蚀、反应离子刻蚀、ICP刻蚀等
9.刻蚀工艺、刻蚀机及刻蚀液（气体）
10.光刻、刻蚀与先进封装
11.半导体园区与企业参观（待定）
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【半导体行业年度报告】